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TCU制冷加熱循環(huán)裝置正確的操控注意事項

 更新時間:2022-09-15 點擊量:1312

  TCU制冷加熱循環(huán)裝置是在化學、制藥行業(yè)的重要溫度控制設備,用于各種反應器,反應器提供熱源和冷源的循環(huán)裝置,在合成反應過程中,通常需要加熱,熱絕緣或冷卻,如果操作或不正確的控制不正確,可能導致有缺陷,這不利于生產。

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  1、高溫和低溫集成功能有效地確保了反應器加熱,冷卻溫度控制的準確性,通過自動化溫度調節(jié)提高了生產效率,并為用戶節(jié)省了成本。

  2、采用機械制冷降溫,具有加熱和制冷功能。一般分為3個部分:制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、控制系統(tǒng)。為用戶工作時提供一個冷熱受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境。

  3、在進行制冷加熱控溫的時候,配套的反應器制冷加熱循環(huán)一體機進行控溫達到預期的溫度范圍,這整個過程會使得產生一定的化學反應,產生熱量,這個反應過程容易被外界所影響,所以,反應器制冷加熱循環(huán)一體機的放置環(huán)境比較重要,建議選擇通風陰涼的靠譜房間放置。

  4、可以配套不同容積大小的反應釜進行制冷加熱控溫,由于不同大小的反應釜帶來的熱容量不同,所以其吸熱或者放熱的能力也不同,因此,選型需要提供準確反應釜大小、溫度要求、材質等工況要求,避免選型或大或小導致設備達不到預期的溫度要求。

5、設備電源在380V穩(wěn)定,因此檢查每次使用前的其他電氣部件是否存在問題,且用戶需要根據其特定條件選擇實際情況。


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