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單流體加熱制冷裝置使用注意事項

簡要描述:單流體加熱制冷裝置使用注意事項,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-11
  • 訪  問  量:964
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航空航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置, 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

 

  單流體加熱制冷裝置的整個液體循環(huán)是密閉的,帶有膨脹容器,膨脹容器和液體循環(huán)是絕熱的,并不參與液體循環(huán),只是機械的連接,不管液體循環(huán)的溫度是高溫還是低溫,膨脹容器中的介質(zhì)都低于60度。整個液體循環(huán)也是密閉的系統(tǒng),可做到低溫時沒有水汽的吸收,高溫時沒有油霧的產(chǎn)生。

    1、在使用單流體加熱制冷裝置之前在槽內(nèi)應加入液體介質(zhì)(純水,酒精,防凍液也可),介質(zhì)液面應沒過槽內(nèi)制冷盤管并低于工作臺20mm為宜;

  2、電源:220V50Hz,電源功率應大于儀器的總功率,電源必須有良好“接地”裝置;

  3、避免酸堿類的物質(zhì)進入槽內(nèi)腐蝕盤管以及內(nèi)膽;儀器應安置于干燥通風處,儀器周圍300mm內(nèi)無障礙物;

  4、液體外循環(huán)時,客戶應特別注意引出管連接處的牢固性,嚴防脫落,以免液體漏出;

  5、經(jīng)常注意觀察槽內(nèi)液面高低,當液面過低時,應及時添加液體介質(zhì);使用完畢,所有開關(guān)置于關(guān)閉狀態(tài),切斷電源;

  6、當單流體加熱制冷裝置工作溫度較低時,應注意不要開啟上蓋,手勿進入槽內(nèi),以防凍傷;

  7、儀器應做好經(jīng)常性清潔工作,長久不用,清空槽內(nèi)的介質(zhì),并且擦拭干凈,保持工作臺面和操作面板的整潔。

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